La tecnologia sputtering “RAMFORCE” di Keihin Ramtech rappresenta un punto di svolta che rivoluzionerà il settore delle celle solari perovskitiche

(Adnkronos) – YOKOHAMA, Giappone, 25 aprile 2023 /PRNewswire/ — KEIHIN RAMTECH Co., Ltd. parteciperà alla SVC TechCon2023 a Washington D.C. Nell'ambito della lotta contro il problema del riscaldamento globale, le fonti energetiche che non si affidano ai combustibili fossili costituiscono un tema importante. Anche le aspettative riguardo le celle solari sono elevate. Le celle solari perovskitiche (PSC), che hanno suscitato particolare attenzione, sono molto richieste sul mercato e stanno guadagnando popolarità in quanto celle solari di nuova generazione. Perovskite è una struttura di dispositivo costituita da strati organici molto delicati nelle celle; le tecnologie convenzionali che utilizzano metodi di sputtering a secco causano danni alla pellicola di ossido trasparente conduttivo (TCO) al momento del deposito, determinando un degrado degli strati organici, il che impedisce il raggiungimento delle caratteristiche del dispositivo desiderate. È stato difficile utilizzare la deposizione per polverizzazione catodica per il TCO. Vantaggi di RAM FORCE Sputtering  Miglioramento delle caratteristiche di deposizione per polverizzazione catodica per le celle solari perovskitiche RAM FORCE, che ha una struttura unica grazie a bersagli a quattro facce e alla disposizione del campo magnetico, ha ottenuto una deposizione a basso danno e nel caso della deposizione TCO su PSC, la durata del vettore, che è una linea guida per i danni, è stata migliorata di circa il 30% rispetto alle apparecchiature di sputtering planare. La proprietà a basso danno è stata utilizzata per ottenere un deposito a basso danno. Sfruttando le caratteristiche di sputtering a basso danno, il PSC ottiene un fattore di riempimento (FF) superiore al 75%, un fattore di curva che rappresenta le caratteristiche della cella. Ha iniziato ad essere utilizzato nelle applicazioni di ricerca e sviluppo (R&S) e nelle linee pilota. Realizzazione della deposizione per polverizzazione catodica a bassa temperatura  RAM FORCE consente una deposizione a bassa temperatura a meno di 60 °C (ITO: 100 nm) ed è quindi adatto alla deposizione su substrati flessibili. Sviluppo futuro di RAM FORCE  RAMTECH si sta concentrando anche su altre applicazioni. Per lo strato di trasporto di lacune (HTL) di PSC, lo strato NiOx può essere utilizzato invece dello strato organico attualmente utilizzato come Spiro-OMeTAD per la realizzazione della deposizione a basso danno e bassa resistenza. Inoltre, modificando le condizioni del processo di deposito, NiOx può anche essere depositato come strato di trasporto elettronico (ETL), rendendo possibile l'uso dello stesso materiale per il deposito di HTL ed ETL, migliorando così le caratteristiche e riducendo i costi. 
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 KEIHIN RAMTECH Co., Ltd. Centro R&S Tetsuya Saruwatari 
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